光刻机是干什么用的？荷兰asml光刻机交付中国

自从华为等中企被老美切断芯片代工渠道后，全球芯片格局就开始了潜移默化的改变，再加上芯片供应短缺问题的激化，整个半导体产业链彻底找不到了平衡点。

除了台积电、三星、高通等数位ic芯片巨头纷纷递交供货申请之外，像asml这样的光刻设备巨头也坐不住了，一方面是由于老美限制它出口利润最大的euv光刻机，另一方面是因为我国正在自研光刻机，并不断实现突破。

asml担心的不止是可能会彻底失去中国市场，更担心的是它近些年在我国的布局计划也可能会随之泡汤。

于是，在去年，asml先后四次示好中国市场。然而，可恨的是，给了我们希望的asml却没有付诸任何行动，我们所急需的中高端光刻机一台都没到货。在这样的情况下，国内专家呼吁，不要再对外界抱任何幻想了，埋头钻研才是打开局面的唯一办法。

谁曾想到，asml首席官在近日居然再次示好，且公开表示，愿意提供技术设备，帮助我国建立完整的半导体产业链，同时，还痛批老美断供华为芯片的行为。这充满“站队性”的表态可是破天荒的头一次。

且不论asml这次是否真的有诚意，但可以肯定的是，它在我国市场或许是真的没机会了。

近日，国产光刻机传出好消息，上海微电子自研的新一代光刻机已经过技术认证与检测，基本正式落地，预计年底之前便可量产商用。

据悉，这款国产光刻机叫做深紫光光刻机，曝光精度达到了28nm，与duv的工艺精度在同一范围内。

要知道，台积电在没有euv光刻机的情况下，利用双重曝光的工艺，依靠duv光刻机便成功量产了7nm芯片，而且英特尔也同样使用duv光刻机制造出了10nm芯片。这意味着，国产28nm光刻机的出现，我们或将从28nm以上的中低端成熟工艺芯片制造水平，就此步入7nm芯片制造的先进水平。

而屡次示好但又反复的asml，此刻对我们来说，已经没有唯一性。值得强调的是，近两年上海微电子在国内光刻市场的份额占比已提高到了80%，除非asml能拿出最先进的euv光刻机，否则，它没有和我们谈判的资本。

很显然，asml根本不可能冒着违背老美出口管制规则的风险卖给我们euv，对于脱轨中国市场这个事实，它只能接受。更关键的是，它近些年在我国市场布局的计划或也就此泡汤。

自从我国展开自主造芯、自主研发光刻设备的行动后，asml同样动作频频，首先是它位于深圳的研究所，大批高薪招募华人光刻工程师；另外，asml在我国大量申请光刻专利，据统计，两年时间，asml申请了2900多个。

它究竟想干什么？用我国光刻专家来给它创造专利，是为了拖缓我们的光刻研发速度？还是让自己的技术水平更加强大？

除了这两点，还有更关键的一点，如果asml提前占用专利，那么将来我们自产的光刻机则需要有它的授权才能正常使用。

不得不说，asml的计划足够决绝，如果真的让它得逞了，那么这道光刻专利壁垒或会在数年乃至十年内继续对我们“卡脖子”。

很可惜，国产光刻企业都早有准备，在研发过程中，均已申请相关专利，这让我们不至于那么被动，就算到了万不得已之时，也能以专利交叉授权的方式摆脱asml的控制。

如今，asml又在我国市场“失宠”，这个计划大概率是要泡汤了。

然而，对于这种情况，我们真的该提高警惕了，尤其是对重点专项技术人才的保护！“人才”是科技的核心竞争力，相比设备技术，国产半导体崛起的路上更紧缺的是人才。

所以，下一步，我们不仅要注重并加大对本土人才的培养，更要把属于我们的“流失”人才给夺回来！